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습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...
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아연입자의 접촉을 이용한 구연산주석(ii) 착체욕에서의 무전해주석도금에 관하여, 도금조건을 만들고, 피막물성 및 석출기구를 검토
무전해도금기타
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표면기술 · 65권 9호 2015년 · Ei UCHIDA ·
Kaoru TANAKA
외 ..
참조 5회
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탄화규소 SiC 분말 장치용 주변 기술로서의 무전해 비스무트 도금
비스무스 도금된 피막은 우수한 융점으로 인해 탄화규소 SiC 전력 장치에서 고온 접합재로 사용되어 왔다. 환원제로서 주석 Sn2+ 이온, 착화제로 구연산을 사용하여 약산성을 갖는 무전해비스무스도금을 조사 하였다. 복합 도금욕은 우수한 안정성을 나타내었고, 순수한 비스무스 피막을 석출하였다...
무전해도금기타
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Trans. Mat. Res. · 39권 1호 2014년 · Ei Uchida ·
Kaoru Tanaka
외 ..
참조 17회
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본 발명은 적어도 하나의 수용성 금화합물, 금 Au 완성제, 수용성을 포함하는 비시안화물 유형 금-주석 합금도금욕을 제공한다. 주석화합물 및 (iv) 양이온성 고분자 계면활성제에서 선택된 하나이상의 성분
금은/합금
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미국특허 · 2003-6544398 B2 · Ei UCHIDA ·
Takashi OKADA
참조 34회
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포름산을 환원제로한 무전해팔라듐 도금의 석출기구
포름산을 환원제로하여 에틸렌디아민 착화욕에서 무전해팔라듐의 석출량 및 소름산의 소비량을 측정하고 석출기구를 검토
도금자료기타
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표면기술 · 50권 5호 1999년 · Ei UCHIDA ·
Takashi OKADA
외 ..
참조 53회
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전자부품에 적용할 목적의 무전해 팔라듐도금욕에 관하여, 피막특성 및 용도전개를 설명
도금자료기타
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표면기술 · 48권 4호 1997년 · Ei UCHIDA ·
참조 25회
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